杨晓京，赵 垒

(昆明理工大学 机电工程学院，云南 昆明 650500)

锗作为一种战略金属，被广泛应用于红外光学、新能源及现代通信等领域[1-2]。单晶锗片的折射率大、透射率高、色散低，有利于降低像差，常用于制造红外光学器材。单晶锗片表面的划痕、麻点、微观峰谷等缺陷会降低成像光束的光能，同时会使入射光发生散射、挡住有效光束，从而影响最终像质。抛光是实现单晶锗片表面平整化、提升表面质量的重要手段，也是提升红外光学系统成像质量的关键。研究单晶锗的抛光工艺，对于促进单晶锗精密加工技术的发展，提升单晶锗在红外光学领域的应用价值具有重要意义。

近年来，国内外学者针对单晶锗抛光技术开展了很多研究。南京航空航天大学的赵研、张梦骏、王勇等[3-5]针对单晶锗片冰冻固结磨料抛光机理与工艺、冰冻固结磨料抛光盘的制备开展了研究。杨昊鹍等[6]利用硅溶胶抛光液，对锗单晶片进行抛光试验，得出抛光液成分对粗糙度的影响顺序。ZHANG L等[7]利用pH值为9、SiO2质量分数5%、H2O2体积分数为1%的溶液抛光锗晶片，获得了较高的材料去除率和优质表面。曹佳辉[8]等根据湿法腐蚀的原理，分析了锗单晶腐蚀抛光过程中各个加工条件对于腐蚀的影响。金寿平等[9]开展了聚氨酯和沥青两种抛光模的数控高速抛光优化试验，最终优化并提出了聚氨酯粗抛光与沥青精抛光相结合的方法。

目前国内外利用悬浮抛光液对单晶锗片进行压力抛光……