表观遗传试剂诱导滇重楼内生真菌Hypomyces sp.CLG4次生代谢产物的研究
2021-01-28娄水珠朱娅宁马肖燕李文义杜刚杨海英汪伟光
云南民族大学学报(自然科学版) 2021年1期
娄水珠,朱娅宁,马肖燕,李文义,杜刚,杨海英,汪伟光
(1.云南民族大学 化学与环境学院,云南 昆明 650500;2.云南民族大学 民族药资源化学国家民族事务委员会-教育部重点实验室,云南 昆明 650500)
植物内生真菌是指存活于健康植物组织中,却不会使宿主植物表现出明显感染症状的微生物[1],它是植物微生态系统的重要组成部分.宿主植物与内生真菌长期协同进化,互利共生[2],使得内生真菌往往可以产生结构丰富的次生代谢产物.研究发现,在实验培养条件下,内生真菌微生物天然产物代谢途径的很多基因或基因簇都是沉默的.因此,激活这些沉默基因或基因簇将有可能产生新的天然产物.如何激活植物内生真菌中沉默的天然产物生物合成基因或基因簇成为当下研究的热点问题[3].
利用化学表观遗传学方法来发现新天然产物是一种有效的策略,其机制主要包括DNA甲基化、组蛋白修饰、非编码RNA等[4].其中,组蛋白去乙酰化酶抑制能够使组蛋白去乙酰化、染色质卷缩,抑制转录,沉默基因,抑制细胞内多种信号通路、凋亡相关基因以及细胞黏附转移相关基因表达,激活沉默基因[5],代表修饰剂有伏立诺他、帕比司他、恩替诺特和西达本胺等.研究表明,通过化学表观遗传修饰,可以改变真菌次级代谢的分子机制,达到基因沉默或基因表达的目的[6-7].Cichewicz课题组于2008年最先提出运用化学表观遗传修饰剂来抑制真菌中影响表观遗传的酶类激活一些沉默……
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