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电子特气六氯乙硅烷产品金属杂质检测方法

2021-01-19万烨肖劲严大洲张园园仲奇凡刘芳洋

中南大学学报(自然科学版) 2020年12期
关键词:方法

万烨,肖劲,严大洲,张园园,仲奇凡,刘芳洋

(1.中南大学冶金与环境学院,湖南长沙,410083;2.中国恩菲工程技术有限公司,北京,100038;3.多晶硅材料制备技术国家工程实验室,河南洛阳,471023;4.难冶有色金属资源高效利用国家工程实验室,湖南长沙,410083)

电子特气作为电子信息产业的基础原材料,是支撑电子信息集成电路产业迈入国际先进水平的重要基础。半导体行业的蓬勃发展推动了电子气体行业快速增长,中美贸易战的持续升级加快了其国产化的进程。《国家中长期科学技术发展规划纲要(2006—2020 年)》、《中国制造2025》的发布,更是激发了国内实力雄厚企业和科研院校的研发及产业化热情。六氯乙硅烷产品作为一种性能稳定、挥发性低和湿度敏感的电子特气产品,主要用于DRAM和NAND Flash存储器的制造以及特征尺寸28 nm以下逻辑芯片的制备工艺,国际上英特尔、三星、台积电和海力士和美光,国内长江储存、华虹、中芯国际和合肥长鑫对六氯乙硅烷均有需求。中国正加快集成电路用基础原材料的国产化进程,目前国内已有2~3家企业攻克六氯乙硅烷产品的生产技术,但其测试方法与国外相比有一定差距。六氯乙硅烷的产品质量通过组分含量和金属杂质2类指标进行评价,其中组分测定在国内有着成熟的色谱分析技术。但是作为常态下为液态且具有挥发性和腐蚀性的硅基化工产品,单项金属杂质质量分数低至十亿分之一,其超痕量金属杂质的测定为目前国内的检测瓶颈,也是国外技术封锁的项目之一。……

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