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真空环境下低损耗高反射光学元件性能退化特性

2020-11-11李斌成高椿明郭小红孙启明

激光技术 2020年6期
关键词:污染测量

许 彬,李斌成*,高椿明,王 强,郭小红,孙启明

(1.电子科技大学 光电科学与工程学院,成都 610054;2.中国科学院 光电技术研究所,成都 610209)

引 言

为了保证激光系统输出光束质量以及安全运行,光学元件表面通常会镀上各种光学薄膜。特别在高能/高功率激光系统中,超低吸收损耗强光膜更是被广泛应用。作为高能/高功率激光系统光路中最薄弱的部分,超低吸收强光膜的光学性能很大程度上限制了激光系统性能和运行寿命。光学元件表面污染导致性能下降甚至出现激光损伤[1]的问题是近几十年来国内外高能/高功率激光科学与工程领域的研究热点之一。该领域具有代表性的激光系统有:美国国家点火装置、罗切斯特大学OMEGA系统、加州理工大学激光干涉引力波探测系统、法国兆焦耳激光装置和中国神光Ⅲ系统等。根据上述系统运行的实际情况,有关团队从不同角度研究和报道了光学元件表面污染引起的性能下降问题[2-10]。结合上述团队的有关报道和其他学者的研究[1,11-12],可知在高能短脉冲激光系统中和在高功率连续/准连续激光系统中,光学元件表面污染导致的激光损伤问题的表象和机理有着本质不同:前者由于激光与光学元件缺陷及表面污染物的相互作用时间极短(纳秒量级),因此是电磁场效应起主导[13-14],主要损伤机理为缺陷损伤;而后者由于相互作用时间相对较长、瞬时电场强度一般比脉冲激光低3个数量级以上,因此光学元件表面污染导致性能下降甚至激光损伤的问题与表面污染物光吸收带来的热效应有着紧密的联系[15]。……

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