花志平 韦庆宇

摘 要：PECVD中需要向真空腔室中定量加入化学药品，目前主要有2种做法，1种采用截止阀控制加药管路与反应腔室的通断，系统上控制截止阀打开的时间来达到定量，但这种加药系统受腔室负压的程度影响较大，无法准确控制药量;另外1种是采用真空计量泵，这种方式下计量准确但是价格普遍昂贵并且体积较大;本文介绍一种小巧并准确的真空添加试剂系统。

关键词：PECVD，真空腔体，添加试剂

引言

等离子表面处理作为提升材料表面性能有效方法被广泛应用于航空航天、汽车制造、机械重工和五金工具制造等领域。主要工艺有CVD、PVD 2种，CVD中的PECVD因淀积的薄膜具有优良的电学性能、良好的衬底附着性以及极佳的台阶覆盖性，所以广泛应用于集成电路、光电器件等领域。PECVD中等离子体化学气象淀积主要是在真空腔体的高真空低压过程，需要定量加入化学单体，目前精度、体积、和价格是难点，本文介绍的定量加药系统精度能达到±3微升，体积小，价格适中，下面进行详细说明。

1 系统构成

主要由药剂容器1，药剂管路2，手动阀门3，过滤，4，截止阀组5，真空腔室6組成。如图1所示。

药剂容器1：用于化学药品的储存，需要考虑到储存材质不能跟化学药品反应，一般采用SUS304。

药剂管路2：为了安装方便选用SUS304，直径范围不宜过大，2～10mm。

手动阀门3：用于系统调试和泄漏检修，在药剂容器下方安装一个手动阀门，也可在紧急状态下的试剂系统关闭，

过滤4：主要用于对化学药……