张依依

业界有种说法，“得芯片者得天下”，而光刻机对芯片制造工艺的进步至关重要。光刻机被誉为半导体工业皇冠上的明珠，其研发成本和制造难度巨大，高端的EUV光刻机更是光刻机中技术含量最高的设备。目前，全世界只有ASML（阿斯麦）一家厂商可生产EUV光刻机，EUV光刻机全球出货量已达57台。这种一家独大的情况是否正常？其他厂商距离打破ASML高端光刻机的市场垄断还有多远的路要走？

ASML在高端光刻机市场

“一家独大”

目前市场上主流的半导体光刻机供应商有荷兰的ASML、日本的Nikon（尼康）和Canon（佳能），市场呈现“三分天下”的格局。赛迪智库集成电路研究所相关人士告诉《中国电子报》记者，ASML在半导体高端光刻机市场一家独大，且完全垄断EuV光刻机的生产。相对而言，Nikon和Canon在半导体领域主要服务于中低端市场，先进制程远落后于ASML，优势仅在成本。

从全球范围来看，相关数据显示，2019年ASML、Nikon和Canon半导体用光刻机共出货359台。在半导体中低端市场，ASML占据34%的t-line光刻机市场份额，Nikon的市占率为18%，Canon则以4g%的份额在i-line光刻机市场占据领先。ASML在KrF光刻机出货量上以65%的比例占据绝对优势，Canon以34%的比例追随其后，Nikon只占4%的KrF光刻机出货量。

在半导体中高端市场，Canon已经“不见踪影”，ASML则以绝对优势“独占鳌头”，共出货104台ArF和ArFi光刻机，市占率分别为63Y0和88%，远高于Nikon的37%和12%。

在EUV光刻机的生产上，一直以来只有ASML 一家公司能提供可供量产的EUV光刻机，因此ASML完全垄断了EUV高端光刻机市场。ASML的“独步天下”已众所周知，但鲜为人知的是，在“戴上”EUV光刻机这顶“皇冠”之前，ASML也经历了很多关键事件。……