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漫反射金膜在1.064 μm波长处的反射特性

2019-09-02杨鹏翎

中国光学 2019年4期

吴 勇,杨鹏翎,张 磊,冯 刚,赵 军

(西北核技术研究所 激光与物质相互作用国家重点实验室,西安710024)

1 引 言

金是一种性能优良的光学材料,在激光器、薄膜、发光材料、液晶显示等领域得到了广泛应用[1-5]。漫反射金膜一般是在粗糙表面采用电镀工艺制作的具有漫反射效果的纯金薄膜,具有工艺成熟、膜层结合力强、易维护、红外波段反射率高的优点,近年来在高能激光测试领域得到成功应用[6],成为提高材料耐激光辐照能力的有效手段。随着辐照激光能量/光强的提升,用于防护的金膜表面出现了氧化变色等现象,导致金膜温度大幅升高,甚至会导致膜层和基底材料的损伤[7]。目前,有关金膜变色现象的研究主要集中在接插件、印制电路板、集成电路等电子工业领域,大部分涉及长期自然环境下或恒定高温下金膜缓慢氧化导致的电气接触不良、焊接性能恶化等问题[8-10]。对于强光作用下金膜氧化过程及其反射特性的研究集中于定性分析[11-17],相关定量研究未见报道。

本文研究了激光作用下漫反射金膜氧化过程中表面反射率变化特性,建立了反射率计算模型,并分析了膜层氧化对激光辐照温升的影响,为金膜在强光防护领域中的应用提供一些参考。

2 激光辐照实验

2.1 实验装置

激光辐照实验原理如图1所示,近红外辐照光源为2 000 W光纤激光器(整形后为方形光斑,尺寸为1 cm×1 cm);利用积分球和InGaAs探测器实现反射率在线监测,K型热电偶用于测量样品温升;……

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