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一种基于光敏BCB技术的兰格耦合器制备工艺研究

2018-07-23梁广华贾世旺徐亚新庄治学刘晓兰

电子与封装 2018年7期
关键词:工艺

梁广华,贾世旺,赵 飞,韩 威,徐亚新,庄治学,陈 雨,刘晓兰,何 超

(中国电子科技集团公司第五十四研究所,石家庄 050081)

1 引言

兰格耦合器广泛用于平衡放大器结构中,相比于其他耦合器,采用兰格耦合器所构成的平衡放大器具有更宽的带宽、更好的输入、输出驻波比以及更优异的稳定性[1]。

在制备工艺上,用于低频段的兰格耦合器的尺寸比较大,一般都是采用微带线来制作指条,再利用金丝跳线去互连各指条。但在较高频段中,如在Ka波段,由于兰格耦合器的指条宽度和指条间距都非常小,无法实现金丝跳接,因此一般都采用介质隔离或借助空气桥技术来实现各指条间的互连[2]。对于介质隔离型的兰格耦合器,在商用MMIC工艺中,通常采用Si3N4(介电常数7.2)介质来进行隔离,这会在兰格耦合器的指交之间形成较大的MIM电容,进而影响兰格耦合器的性能;对于空气桥型的兰格耦合器,在后期组装过程中空气桥的存在增加了组装难度,造成成品率的降低。

苯并环丁烯(BCB)具有高热稳定性、低介电系数(2.6~3.4)、良好的平坦性和可加工性,是广泛应用的一种介质材料,尤其是光敏BCB可以直接通过光刻技术实现图形化,大大简化了图形化介质层制备的工艺过程,得到了业内越来越广泛的关注[3-4]。

本文主要针对高频应用下的空气桥型兰格耦合器存在的可靠性问题,确定了一种基于光敏BCB技术的介质桥兰格耦合器的制备方法,从加工流程入手,研究了加工过程中影响介质桥质量的光敏BCB图形化工艺和BCB固化工艺这两项关键技术,并对关键技术的重要因素进行了分析和试验。……

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