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基于遗传算法的Low-E膜系中透明介质膜层均匀性在线分析

2018-06-26000000太阳能与建筑节能玻璃材料加工技术市000盛建材工程有限公司0000090

材料科学与工程学报 2018年3期
关键词:分析

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1 前 言

随着建筑节能法规的强制实施及公众节能意识的增强,离线Low-E镀膜玻璃的用量在逐年增加,该类产品采用Ag薄膜实现低辐射效果,但由于Ag薄膜的金属属性需要利用透明介质膜层构成膜系,解决其附着力、耐环境、抗划伤等性能局限,同时需要通过各透明介质膜层与Ag膜层的光学匹配实现对产品光学性能及外观颜色的调控,以满足建筑设计要求。目前离线Low-E节能镀膜玻璃采用磁控溅射方式生产,能够生产最大宽度3300mm[1-2],因此对膜层厚度均匀性提出了较高的要求。

为满足产品质量管控需求,离线Low-E镀膜生产线均配备有在线光学性能检测系统,用于监控产品玻面、膜面反射和透射光谱及颜色,若能利用在线光学系统测得的光谱数据分析介质膜层的厚度均匀性,将会在磁控溅射阴极安装调试及产品开发中具有重要的指导意义,因此本文将介绍依据膜面反射光谱、建立膜层柯西光学模型、基于遗传算法分析介质膜层厚度及折射率,以及结合各测量点颜色数据分析膜层厚度均匀性的方法。

2 光学模型

2.1 透明介质膜层特点

在离线Low-E膜系中常用到SiNx、SnOx、ZnOx、ZnSnOx、TiOx等透明介质膜层,这类膜层的厚度对实现产品的透光率、反射率和颜色等光学性能起到至关重要的作用[3],在Low-E镀膜行业采用L*、a*、b*方式表示颜色空间,其中L*表示明度(Luminosity),a*为横坐标,由正到负的变化表示颜色由红色变化至绿色;b*为纵坐标,由正到负的变化表示颜色由黄色变化至蓝色[4]。……

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