苏雷生， 林　钰， 董　林， 辛荣生

(1.郑州大学 材料科学与工程学院, 河南 郑州 450001； 2.河南教育学院 化学系, 河南 郑州 450014)

0　引言

透明导电薄膜由于具有性能稳定、价格低廉，具有宽禁带、可见光透过率高、电阻率低等优点，所以被广泛用于平面显示、太阳能电池、电致变色镜、热镜、智能窗和薄膜电池等领域[1-3].

Nb掺杂TiO2(即NTO)薄膜是一种新型的透明导电材料.研究人员发现锐钛矿相Nb掺杂的TiO2薄膜具有和 ITO薄膜类似的光电性能[4].与传统透明导电材料ITO(铟锡氧化物)相比，NTO薄膜具有高折射率和高化学稳定性；而且Ti资源丰富，在地壳的储量约是In的10万倍，有望替代需大量消耗稀有金属In的ITO薄膜材料，广泛应用于光电器件领域[5].近年来，在NTO薄膜材料研究方面已取得了一些进展，文献[6]首次报告了NTO薄膜具有高的光电特性；文献[7]研究了用射频磁控溅射法制备NTO膜，在400～700 nm波长范围内透过率达80%以上；文献[3]使用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了NTO薄膜，电阻率降到9.5×10-4Ω·cm，可见光透过率达到75%以上.国内在Nb掺杂TiO2薄膜研究方面的文献报导不多，有关薄膜结构与性能的一些问题仍有待深入研究.

实验室制备Nb掺杂TiO2薄膜的方法很多, 常见的有磁控溅射法[8]、脉冲激光沉积法[5]、溶胶凝胶法[10]以及化学气相沉积法[5]等. 在这些制备方法中，磁控溅射法具有溅射速率高、衬底温度低、可控性好和易于获得大面积均匀薄膜等优点，因此采用磁控溅射技术制备锐钛矿相的TiO2纳米薄膜已成为近些年该研究领域的主要方……