王春富，秦跃利



混合集成薄膜电阻的误差来源分析及修正方法

王春富，秦跃利

（中国电子科技集团公司第二十九研究所，四川 成都 610036）

混合集成薄膜电路应用于微波毫米波等高频领域时，对集成的薄膜电阻阻值提出了很高的精度要求，现有工艺无法满足，作者通过分析薄膜电阻制造工艺过程，确定了集成薄膜电阻的误差来源，比对了电阻宽度和实际阻值之间的关系，找到了电阻误差的变化规律，并在此基础上提出了电阻宽度修正方法，实现了薄膜电阻阻值的精确控制。

混合集成电路；毫米波；薄膜电路；薄膜电阻；电阻误差；修正方法

薄膜电阻是混合集成薄膜电路中最基本也是最重要的集成元素之一。由于薄膜电路主要应用于高频微波或毫米波领域，其对薄膜集成电阻提出了很高的要求，特别是电阻阻值精度和电阻外形质量。

在混合集成薄膜电阻的制造流程中，良好的膜层均匀性和准确的溅射方阻是制作高精度薄膜电阻的基础。目前国内真空溅射膜层均匀性一般在精度±3%以内，通过调整溅射时间来改变溅射膜层的厚度，可以方便地获得所需的方阻阻值。

目前混合集成薄膜电路对阻值的精度要求一般在±5%左右，可见真空溅射膜层的均匀性已经满足了电阻制作要求。值得关注的是，在某些薄膜电路中虽然溅射出了均匀性良好的电阻膜层，也获得了与设计值相符的方阻，但当电阻图形尺寸存在较大差异时，仍无法制作出高精度的薄膜电阻。……