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基于锗硅 BiCMOS 工艺的射频带隙基准电流源设计

2017-06-27孙楷添丁星火张甘英

电子与封装 2017年6期

孙楷添,丁星火,张甘英

(1.中国电子科技集团公司第 58 研究所,江苏 无锡 214072;2.西安电子科技大学微电子学院,西安 710071)

基于锗硅 BiCMOS 工艺的射频带隙基准电流源设计

孙楷添1,丁星火2,张甘英1

(1.中国电子科技集团公司第 58 研究所,江苏 无锡 214072;2.西安电子科技大学微电子学院,西安 710071)

射频电路偏置电流源对噪声的要求越来越高,引进的噪声不容忽视,带隙基准源在保证温漂系数的同时要求有较低的噪声。设计了一款不采用运放结构简单的射频带隙基准源电路,电源电压3.3 V,基准电压 VREF为 3.14 V,采用 PNP 双极管和电阻,利用缓冲器负载实现输出 DC 点和输出摆幅不变,改善了温度系数并且降低了噪声。基于 0.18 μm SiGeBiCMOS 工艺的仿真结果表明,在-55~125 ℃温度范围内,温漂系数为 9.613×10-6/℃;7.5 GHz 频率下,100 kHz 处噪声为 6.164 nV/sqrt(Hz),总输出噪声低至 2.08×10-6V。

锗硅工艺;射频;带隙基准;温漂系数;噪声

1 引言

本文基于 0.18 μm SiGeBiCMOS 工艺,设计了一款可用于射频电路的带隙基准电流源电路,将倍增电路和微电流源电路相结合,一阶结构基准电压温漂系数接近二阶,能够输出恒定的电流,电流通过镜像电路输出到缓冲器负载的偏置电流源的基极,缓冲器负载输出 DC点和摆幅不变,安全可靠。

2 常见的带隙基准电路

BJT(双极晶体管)的 VBE电压随温度的升高而降低(CTAT),而两个在不同电流密度下工作的双极晶体管的 ΔVBE随温度的升高而升高(PTAT),把这两个电压按一定比例叠加,得到的基准电压就几乎与温度系数无关[2]。我们假设电压 V1呈正温系数,电压 V2呈负温系数,只要满足下面的关系式:

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