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铜−二氧化硅凝胶薄膜的电化学制备及其光学性能

2017-06-09冯砚艳王星星辜敏

电镀与涂饰 2017年9期

冯砚艳,王星星,辜敏*

(煤矿灾害动力学与控制国家重点实验室,重庆大学资源及环境科学学院,重庆 400044)

铜−二氧化硅凝胶薄膜的电化学制备及其光学性能

冯砚艳,王星星,辜敏*

(煤矿灾害动力学与控制国家重点实验室,重庆大学资源及环境科学学院,重庆 400044)

以CuCl2·2H2O和正硅酸乙酯(TEOS)作为前驱体,配制了透明稳定的Cu2+–SiO2复合溶胶。采用循环伏安法研究了Cu2+在该溶胶中的电化学性质,以恒电位法在氧化铟锡(ITO)导电玻璃表面沉积了凝胶复合薄膜。采用扫描电镜、能谱、X射线衍射对复合薄膜进行了表征,以紫外−可见光谱测试了薄膜的线性光学性能。结果表明,控制电位在−0.24 ~ 0.2 V和负于−0.24 V (相对于饱和甘汞电极)可分别制备出Cu+–SiO2和Cu–SiO2凝胶薄膜,前者的平均光学带隙宽度(Eg)为1.94 eV,略高于后者的1.92 eV。由于Cu在溶胶中是连续成核,导致了Cu–SiO2凝胶薄膜中的Cu颗粒大小不均匀(在几十纳米至几微米之间),吸收光谱在400 ~ 500 nm出现了Cu带间迁移的吸收峰。

二氧化硅溶胶;铜;复合薄膜;氧化铟锡;恒电位电沉积;循环伏安法;紫外−可见光谱;光学带隙

金属(Au、Ag、Cu等)纳米颗粒与电介质基体(如SiO2、TiO2、BaTiO3、Al2O3等)构成的复合材料具有优良的光学性能。SiO2有较大的介电常数和对红外光有较大的透射率,与金属构成的金属−SiO2复合材料已被广泛研究,以用于集成光学器件。制备铜纳米颗粒−介电复合材料常用的方法有离子注入[1]、溶胶−凝胶[2-4]、射频磁控共溅射沉积[5]等,其中溶胶−凝胶制备的复合薄膜具有纯度高、均匀、加工温度低等优点。研究表明,Cu–SiO2材料具有优良的非线性光学性能[1,4]。……

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