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Ga-N共掺氧化锌纳米线阵列制备及发光性能研究

2017-03-30张明光苏明明宋周周沈典典张翔晖

电子元件与材料 2017年3期
关键词:生长结构分析

娄 猛,张明光,苏明明,宋周周,沈典典,张翔晖



Ga-N共掺氧化锌纳米线阵列制备及发光性能研究

娄 猛,张明光,苏明明,宋周周,沈典典,张翔晖

(湖北大学 铁电压电材料与器件湖北省重点实验室 物理与电子科学学院,湖北 武汉 430062)

采用化学气相沉积法(CVD)以一氧化氮(NO)和氧化镓(Ga2O3)为掺杂源,在轴取向单晶蓝宝石衬底上外延生长镓氮(Ga-N)共掺氧化锌(ZnO)纳米线阵列。利用SEM, XRD, HRTEM, XPS, PL等测试手段对掺杂后的ZnO纳米线阵列进行结构、成分和光学性能表征。结果表明,Ga-N共掺ZnO纳米线阵列保持六方纤锌矿结构,沿(002)方向择优生长;掺杂元素在样品中均匀分布。随着掺杂浓度增加,纳米线由六棱柱结构转变为尖锥层状结构,长度由2 μm减小到1 μm,锥度增加至0.95;N 1s/Ga 2p/Zn 2p峰结合能向低能态方向移动。PL光谱分析表明,所有样品均出现紫外发光峰和绿光发光峰,不同掺杂浓度的缺陷发光强度不同。

化学气相沉积法;镓氮共掺;氧化锌纳米线阵列;高分辨透射电子显微镜;X射线光电子能谱;荧光光谱

氧化锌(ZnO)是一种重要的Ⅱ-Ⅳ族直接带隙宽禁带化合物半导体,禁带宽度为3.37 eV,室温下的激子束缚能高达60 meV,远高于室温下的热离化能(26 meV)和GaN激子束缚能(25 meV),是制造高效率短波长探测、发光和激光器件的理想材料。此外ZnO原料丰富,制备工艺简单,稳定性好,安全无毒,在研制高性能ZnO基光电器件方面具有独特的优势,且有望取代GaN成为新一代半导体发光材料[1-3]。

LED作为第四代照明光源,具有节能环保、寿命长、光效高和色彩丰富等一系列……

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