葛慧琳

摘 要 ZnO基稀磁半导体（DMS）具备半导体和磁性材料的综合特性，随着第一例磁性半导体的发现，ZnO基磁性半导体研究受到人们广泛关注。本文综述了ZnO基磁性材料的各种制备方法以及国内外ZnO基磁性材料的研究现况和应用前景。

关键词 ZnO；磁性材料；制备方法

中图分类号 TM277+1 文献标识码 A 文章编号 1674-6708（2016）172-0294-02

ZnO基磁性材料是Ⅱ—Ⅵ族稀磁半导体（DMS）材料，是非磁半导体ZnO和磁性物质的合金，该材料可用于紫外线防护、气敏元件等，且价格便宜，材料来源广。自第一次（Ti，Co）O磁性半导体被发现以来，研究学者对这种磁性材料产生了兴趣，并开始研究其制备方法以及制备方法对材料性能的影响。ZnO基磁性材料的制备方法比较多，目前有磁控溅射法、脉冲激光沉积法、金属有机物化学气象沉积法、分子束外延、原子层外延、喷雾热解法、溶胶-凝胶法、烧结法、微波烧结法、离子注入法等工艺。以下对常用的一些方法进行介绍。

1 制备方法

1.1 脉冲激光沉积法

脉冲激光沉积法是ZnO薄膜常用制备方法之一。该方法把激光束导入到真空室中，被激光束加热后蒸发、电离的靶材上形成高温等离子体羽辉，在膨胀过程中，等离子体羽辉垂直于靶材表面，在基板被加热到一定温度后，羽辉中的物质在基板在上沉积形成薄膜。可在真空室中同时放置多个靶材，并且通过靶材的旋转原位制备具有良好界面的异质结合超晶格。Jae Hyun Kim等人用ZnO和CoO粉末混合烧结而成的陶瓷靶成功制备了ZnO薄膜样品。

与其他方法相比，脉冲激光法的靶材制备、设置以及调整都很方便，便于成分调整；……