带工艺修调的低温漂片内振荡器设计*
2016-12-01王慧丽冯全源
电子技术应用 2016年9期
关键词:工艺
王慧丽,冯全源
(西南交通大学 信息科学与技术学院微电子研究所,四川 成都 611756)
带工艺修调的低温漂片内振荡器设计*
王慧丽,冯全源
(西南交通大学 信息科学与技术学院微电子研究所,四川 成都 611756)
针对片内CMOS振荡器频率稳定性不高的问题,提出了一种对温度和工艺的补偿方案。基准电压在正温度电阻上产生一路负温度系数的电流,将其与带隙基准产生的PTAT电流进行叠加得到零温度系数的电流对电容充电;采用数字修调网络对电容进行修调,振荡器频率的工艺漂移被显著降低。仿真结果表明:典型工作条件下,振荡器中心频率为1 MHz,占空比为 50%;当温度在-40℃~125℃范围内变化时,振荡器输出频率漂移仅为0.8%;对电容进行修调后,在三种不同的工艺角下,输出频率相对误差仅为1.23%。振荡器对温度和工艺偏差不敏感,表现出良好的稳定性。
振荡器;温度补偿;工艺漂移;电容修调
0 引言
近年来,随着消费电子的迅猛发展,对高效、稳定、低成本开关电源的需求也越来越大。作为开关电源的频率源,振荡器不仅影响着芯片的控制时序,同时也对系统的频率响应、转换效率等性能产生重要影响。因此,高精度、低成本、高稳定性成为片内振荡器的基本设计要求。RC振荡器由于成本低廉、便于集成等诸多优点被广泛应用于DC-DC电源管理芯片中。然而,RC振荡器输出频率受工艺、温度、电源电压等因素影响较大[1],因此,如何保证时钟频率的稳定性,成为片内振荡器面临的主要挑战。……
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