邹　祺

(上海电力学院 环境与化学工程学院, 上海　200090)



近红外硫代方酸菁染料的合成

邹祺

(上海电力学院 环境与化学工程学院, 上海200090)

以方酸和N,N-二丁基苯胺为原料,分别采用两步法合成了2种硫代方酸菁染料.用硅胶柱层析法分别对合成染料进行分离提纯,并通过核磁共振氢谱对产品结构进行了表征,测试了产品的基本光谱性能,结果证明两种菁染料均具有良好的光学性能.

菁染料; 方酸; 近红外

方酸菁染料自1965年被首次合成以来[1],目前已经历了50年的发展,其应用已经拓展到各个领域.它由一个缺电子的中心四元环和两端的给电子基团组成,是一类具有共振稳定两性离子结构的染料[2].

方酸菁染料溶液在可见及近红外区域(波长620～670 nm)具有强而尖锐的吸收特性,并且常常伴有荧光发射,这是由两端电子给体和中心四元环电子受体分子内强的“给体-受体-给体”(D-A-D)电子转移相互作用引起的.方酸菁染料具有典型的吸收和发射光谱,峰型呈镜面对称,最大吸收波长与最大发射波长较为接近,斯托克位移一般小于30 nm[3].方酸菁染料由于其具有摩尔消光系数大、荧光性能优良、与基质结合后荧光效率增大、最大吸收光谱可调谐范围大、易于合成等优点,近年来在红外激光染料、太阳能电池、光盘存储材料、生物分析、离子识别、核酸标记等方面得到了广泛应用[4-6].

目前文献报道的方酸菁染料基本均是以氧代环丁烷作为中心单元,本文通过将该中心……