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SiC颗粒化学镀铜工艺研究

2016-09-23吴开霞

中国材料进展 2016年8期
关键词:工艺

吴开霞,王 博

(1.四川大学锦城学院机械工程系,四川 成都611731)(2.济南玫德铸造有限公司,山东 济南250400)



SiC颗粒化学镀铜工艺研究

吴开霞1,王 博2

(1.四川大学锦城学院机械工程系,四川 成都611731)(2.济南玫德铸造有限公司,山东 济南250400)

吴开霞

化学镀铜在生产中应用比较广泛,但是在化学镀铜过程中的活化工艺所需试剂有毒,并且价格较为昂贵。探讨了取消化学镀铜过程中的活化工艺后,其他工艺条件对SiC镀铜效果的影响规律。经实验分析,获得了化学镀铜实验优化工艺参数为:化学镀铜溶液温度为35 ℃,溶液pH值用氢氧化钠调节至12~13,硫酸铜加入量为12 g/L,甲醛加入量为28 ml/L,酒石酸钾钠加入量为40 g/L,经过一定时间在碳化硅表面得到了良好的铜镀层。通过X射线衍射仪及扫描电镜检测,结果表明:取消了活化工艺后,在碳化硅表面仍然得到了较好的铜包覆层。

碳化硅;化学镀铜;活化工艺

1 前 言

铝基复合材料具有密度小,质量轻,耐腐蚀性好,价格便宜等优点[1],人们对这类材料研究的兴趣正日益增长。为了改善铝基复合材料的性能,可以通过添加一些添加剂来提高其性能,碳化硅是一种性能优良的非氧化物陶瓷材料,具有高硬度、高耐磨性、耐高温、成本低等优点[2-4],已经被广泛地应用于颗粒增强体来制备金属复合材料。在金属铝中添加碳化硅颗粒可提高其强度、耐磨性等,但碳化硅颗粒与铝基体之间的润湿性差,使颗粒很难加入和分散。因此改善基体与增强颗粒间的润湿性成为制备SiCp/Al复合材料的前提条件。……

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