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高纯一氧化二氮的制备

2016-09-19高天龙牛永进

低温与特气 2016年4期
关键词:改性深度实验

高天龙,孙 玮,牛永进

(中昊光明化工研究设计院有限公司,辽宁 大连 116031)



·特气制备·

高纯一氧化二氮的制备

高天龙,孙玮,牛永进

(中昊光明化工研究设计院有限公司,辽宁 大连 116031)

建立一套多单元集成式深度纯化工艺装置。以医药级一氧化二氮为原料,利用高压常温吸附和低温冷凝抽空相结合的方法,深度脱除一氧化二氮中的各种杂质,制备得到纯度为99.999%的高纯一氧化二氮产品。

一氧化二氮;吸附;压力;吸附剂

0 引 言

一氧化二氮(N2O)俗称笑气,广泛应用在医用麻醉剂,食品悬浮剂,制药,化妆品等领域[1]。随着我国半导体集成电路产业的快速发展,对高纯气体品种的要求越来越多,高纯N2O作为电子气体,主要用于半导体光电器件研制生产的介质膜工艺,是直接影响光电器件质量的不可替代的关键电子气体。高纯N2O在化学气相沉积(CVD)工艺中,可用于制备掺杂SiO2膜,在某些条件下可代替高纯NH3用来生产氮化硅掩蔽膜。高质量SiO2膜对N2O的纯度提出了更高的要求,其纯度直接影响到SiO2膜的纯度并会进一步影响器件的相应特性和长期可靠性。因此,为保证光电器件产品的质量和可靠性,要求N2O纯度需在99.999%(5N)以上[2-4]。目前N2O的制备工艺主要有硝酸铵干法分解、硝酸铵湿法分解、盐类反应及尿素法等[1],但直接制备得到的N2O产品往往不能满足高纯度(5N)的要求。本文以医药级N2O为原料,通过高压常温吸附和低温下冷凝抽空相结合的工艺方法,深度脱除N2O中的各种杂质,制备得到5N级的高纯N2O产品。……

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