吴杰

（长春理工大学　电子信息工程学院，长春　130022）

非晶硅薄膜表面微纳结构制备及抗反射性能研究

吴杰

（长春理工大学电子信息工程学院，长春130022）

为了对非晶硅薄膜表面改性，使其具有更好的抗反射性，将采用激光干涉光刻的方法，在非晶硅薄膜表面制备具有抗反射性能的微纳结构。首先搭建三光束激光干涉系统，使用波长为1064nm的Nd：YAG激光光源，使其在空间分布上接近旋转对称的三束光，对非晶硅薄膜进行干涉实验，然后用扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）对激光刻蚀后的非晶硅薄膜表面结构特征参数进行检测，并使用反射率测量仪对改性后的非晶硅薄膜表面反射率进行测量，分析各参数对抗反射性能的影响。实验结果表明，随着能量逐步增加，光强分布周期没有发生改变，孔的直径、孔与孔之间的距离以及结构深度逐渐发生改变且呈线性分布，而非晶硅表面反射率逐步降低，最低达到10%。

激光干涉；非晶硅薄膜；微纳结构；抗反射

随着全球化石油能源的消耗殆尽，环境问题的日益加剧，太阳能作为一种清洁可再生能源正日益受到各国重视。目前太阳能电池作为利用太阳能的主要方式，以单晶硅太阳能电池为代表占据着太阳能电池的大部分市场。但由于单晶硅太阳能电池需要对硅进行高质量的提纯处理，硅纯度需达到99.9999%［1，2］，这在价格因素上很大程度限制了太阳能电池的大规模应用。薄膜太阳能电池的厚度只有几微米到几十微米，是传统单晶硅电池厚度的近百分之一，可以有效降低太阳能电池的材料成本。……