高速气流喷射干式清洗理论及实验研究
2016-08-31庞昊斐祝锡晶赵轩达
制造技术与机床 2016年7期
庞昊斐 祝锡晶 赵轩达
(①中北大学山西省先进制造重点实验室,山西 太原 030051;②北京清大天达光电科技股份有限公司,北京 101204)
高速气流喷射干式清洗理论及实验研究
庞昊斐①②祝锡晶①赵轩达①②
(①中北大学山西省先进制造重点实验室,山西 太原 030051;②北京清大天达光电科技股份有限公司,北京 101204)
为进一步发展环保经济的清洗方式,提出一种高速气流喷射的干式清洗方法。建立了高速气流喷射条件下去除光滑表面球形微粒的物理模型,将拖拽力与粘附力的比值定义为无量纲的再悬浮参数F*并给出其值的计算方法。选取玻璃基板和单晶硅片为样本平面、单分散的聚苯乙烯微粒为样本微粒,进行高速气流喷射清洗实验,实验探讨了F*与去除效率的关系。结果表明:高速气流喷射法为去除光滑表面微粒的有效方式;再悬浮参数F*可以作为评估去除效率的有效依据。
干式清洗;高速气流喷射;再悬浮参数;去除效率
清洗技术的发展对于处理微电子、半导体和光学工业中亚微米颗粒的污染[1-2]、室内有毒气体和粉尘污染[3]以及核污染[4]有重要意义。在微电子产品的制备工艺过程和搬运包装过程中,尘埃粒子、纤维纸屑和SiO2等无机微粒附着在产品表面会造成产品缺陷[5]。随着产品制备工艺条件的越加严格精准,污染物的去除要求也越来越苛刻,环保经济的高效清洗方法亟待研发。
清洗方式主要分为两大类,即以液体为清洗介质的湿式清洗和以气体为清洗介质的干式清洗。……
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