贾若琨，杨晓航，龙智云，何蕾茵，王盼新，张凌云，赵　明

( 1.东北电力大学化学工程学院，吉林132012;2.哈尔滨工业大学市政环境工程学院，哈尔滨150090)



基于连续弯液面构筑的有序阵列模板复制模塑制备图案化聚合物薄膜

贾若琨1，杨晓航1，龙智云2，何蕾茵1，王盼新2，张凌云1，赵明2

( 1.东北电力大学化学工程学院，吉林132012;
2.哈尔滨工业大学市政环境工程学院，哈尔滨150090)

摘要基于咖啡环理论，利用微米尺度限制下的弯液面溶剂散逸过程获得表面微结构可控的有序阵列，以此为母模板制备聚二甲基硅氧烷( PDMS)弹性印章，通过复制模塑过程实现阵列结构转移.利用广义Young-Laplace方程建立的理论模型分析弯液面聚合物沉积黏连过程，推导出条纹沉积频率与聚合物分子量、基底滑动速率和溶液浓度的关系，理论计算结果与实验现象一致.

关键词弯液面;有序阵列;母模板;复制模塑技术;图案化聚合物薄膜

具有特殊功能的微观图案化聚合物薄膜受到越来越多的关注，并在微反应器、生物传感器、微电子器件、光学器件及生物界面等领域广泛应用［1～6］.聚合物薄膜微观图案化技术主要包括光刻技术、自组装技术、软刻蚀技术和纳米压印技术等［7～10］.传统光刻技术是目前为止应用最可靠和最基本的技术，在半导体及集成电路制造领域具有重要应用.但光刻技术普遍存在设备昂贵、生产效率低、不能大面积获得等缺点［11］.自组装图案化技术是利用小分子、聚合物或构筑单元的自组装……