纪美茹

摘 要 以氧化石墨及硫酸钛、十六烷基三甲基溴化铵作为起始反应物，制备了二氧化钛-氧化石墨插层材料，并考察了样品在紫外光下光催化降解甲基橙的催化性能。结果表明：该插层材料作为光催化剂比P25纳米TiO2表现出更高的催化活性，并且经4次重复利用后，仍保持很高的光催化活性。

关键词 氧化石墨；TiO2；插层材料；光催化

中图分类号 TB3 文献标识码 A 文章编号 2095-6363（2015）09-0034-02

半导体材料TiO2在光催化材料等领域有广阔的应用前景[1-2]，但是TiO2量子产率较低，易于失活，所产生的光生电子-空穴容易复合，导致光催化效率低，从而影响到了TiO2在实际中的应用。因此，对TiO2的研究多集中在对其改性上，通过改性可显著提高其催化活性并提高对可见光的利用率。由于氧化石墨层内以强共价键结合，层间则通过各种含氧官能团以弱的氢键连接，主体石墨层上含有丰富的极性基团、带负电荷、片层面积大并且离子交换能力强，这些特点使其具有良好的复合能力。鉴于TiO2与氧化石墨的特殊性能，本文以氧化石墨作为插层主体，CTAB、硫酸钛作为插层客体制备了TiO2-GO插层材料。由于氧化石墨和TiO2的特殊性质，TiO2插层氧化石墨材料作为一种新型的复合材料，有希望具有优良的电学、磁学和催化性能。

1 实验

1.1 所用试剂及原料

本实验所用硫酸钛、十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）是中国医药（集团）上海化学试剂公司生产的分析纯化学试剂。P25 型纳米TiO2为Degussa 公司（德国）生产。甲基橙（MO）是上海试剂三厂生产的分析纯化学试剂，氧化石墨是本实验室采用hummers自制的。……