曹健

(中国电子科技集团公司第十三研究所，河北石家庄050051)

离子注入技术与设备常见故障分析

曹健

(中国电子科技集团公司第十三研究所，河北石家庄050051)

介绍了离子注入技术的特点及其原理，在分析介绍其设备种类的基础上，简要概述了离子注入设备的基本结构，详细分析了影响注入工艺的各种因素，根据多年的设备维护经验，总结归纳了离子注入机的常见故障，并提出了各种故障的处理措施。

离子注入；离子束；束流；聚焦与扫描

离子注入是现代集成电路制造中的一种非常重要的掺杂技术，它以离子加速的方式将掺杂元素注入到半导体晶片内部，改变其导电特性并最终形成所需的器件结构。离子注入工艺有许多优点，已大规模取代了扩散工艺，成为半导体工艺中最常见的掺杂技术。离子注入机的工作过程为：离子源将掺杂元素电离为带正电荷的离子，由吸极把离子从源中提取出来，经过磁分析器分离，把所需的离子与其它离子分离出来，再由加速器将掺杂离子加速到所需能量，最后由聚焦扫描系统把离子注入半导体材料中。离子注入机是半导体工艺中最复杂的设备之一，其设备维修涉及物理、电气、机械、机电一体化、自动控制等多门学科知识。

1 离子注入技术的特点及原理

1.1 离子注入技术的特点

离子注入技术是一种纯净的表面处理技术，它无需在高温环境下进行，故不会改变加工工件的外形和表面光洁度。……