用于二维线纹测量的二维动态光电显微镜
2015-04-13李华丰王霁朱振宇兰一兵李强
计测技术 2015年4期
李华丰,王霁,朱振宇,兰一兵,李强
(中航工业北京长城计量测试技术研究所,北京100095)
0 引言
二维线纹样板利用一组交叉十字刻线定义平面内的点坐标,常用于影像测量仪、光学成像系统等视觉测量系统的校准与畸变检测[1-2]。
二维线纹样板的量值传递过程中,需要进行高精度可溯源测量。对二维线纹进行溯源测量的关键是对其刻线进行高精度瞄准,刻线瞄准方法决定了测量结果的准确性和溯源性。
工业领域常采用成像法进行二维线纹的精密测量与校准,将被测样板经光学成像系统放大后投影在CCD 靶面上,采集图像,处理图像信息拟合出刻线及位置坐标[3]。该方法的测量精度受到成像系统精度的限制,一般仅能达到微米级[4]。而且其与二维线纹所要校准的仪器设备采用相同的工作原理,无法实现测量结果的直接溯源。
更精确的二维线纹测量采用干涉仪与成像系统相结合的局部成像瞄准法,成像系统只对刻线附近的小区域进行光学放大并处理图像,实现小范围的测量与瞄准,大范围测量则由干涉测量系统完成,测量结果由这两部分组合而成[5]。这种方法可采用高倍率光学成像系统,瞄准分辨力较高,测量结果中的干涉测量部分可直接溯源到国际米定义。
本文介绍一种利用光电显微镜对刻线进行二维对线瞄准的装置。将刻线的像分别呈现在相互垂直的两组狭缝上,利用刻线像与狭缝的相对位置关系判断瞄准位置。……
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