童欣欣，沈筱芳，徐 劼，保积庆，胡芳琴，李秀红

（1. 嘉兴学院 南湖学院， 浙江 嘉兴 314001；2. 常州大学 环境与安全工程学院，江苏 常州 213100；3. 嘉兴学院 生物与化学工程学院，浙江 嘉兴 314001 ）

随着电脑、电视机等常用电器的快速普及，高性能彩色显像管的需求量日益增加，而荫罩是显像管关键部件之一。荫罩生产中的蚀刻工艺，对高浓度FeCl3蚀刻液的需求量极大［1-2］。在蚀刻过程中，FeCl3蚀刻液中不断富集Ni2+，而蚀刻液中的有效成分FeCl3不断被还原成FeCl2，从而导致蚀刻液对荫罩的蚀刻能力降低，蚀刻产品质量变差［3-5］。失效的蚀刻液若不经处置而直接排放，不仅会污染环境，还将造成资源的极大浪费。

国内外有关废FeCl3蚀刻液中Ni2+的去除方法有较多的研究报道，包括沉淀法、还原法、离子交换法、电解法、反渗透法、无机膜法等［6-12］。目前，有采用FeCl3浸出高冰镍或采用浓缩法再生FeCl3蚀刻液的工艺，但这些处理工艺比较复杂，且除Ni2+效率低，成本高。而采用LK-C2萃取剂的分离工艺，则存在可操作性不强等缺点［13］。本课题组自制研发了SSX萃取剂，对溶液体系中的Fe2+和Ni2+具有较好的分离选择性，且价格便宜。

本工作采用萃取工艺， 采用SSX萃取剂对蚀刻液经前期电解工艺处理后的阴极液（简称废液）进行萃取处理，制备NiCl2产品。考察了萃取pH、萃取剂含量、萃取相比（SSX萃取剂与废液的体积比）、萃取时间、萃取级数对阴极蚀刻液中Ni2+萃取率的影响；以及反萃剂HCl溶液浓度、反萃相比（反萃剂体积与萃取液的体积比）、反萃时间对Ni2+反萃取率的影响。

1 实……

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