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叔丁基二硅氧烷(tBu2SiX-O-SiXtBu2,X=H,Br)的合成及表征

2014-03-20徐金舟效旭琼李志芳

关键词:氯硅烷硅氧烷二叔

赵 卉,徐金舟,效旭琼,李志芳

(杭州师范大学有机硅化学及材料技术教育部重点实验室,浙江 杭州311121)

有机硅材料具有一系列其它合成材料不可比拟的优良性能,在工业、农业、国防、科技、卫生以及人们的日常生活中都有广泛应用[1].有机硅材料研究中,聚硅氧烷是非常重要的一类化合物,以其为原料可以合成硅油、硅橡胶及硅树脂等许多性能优良的衍生物.Si—O—Si键是构成聚硅氧烷的基本键型,含有一个Si—O—Si键的二硅氧烷就成了研究聚硅氧烷的模型化合物[2].此外,二硅氧烷也是一类重要的化工原料.四甲基二氢二硅氧烷就是其中一种,通常被称作含氢双封头剂.由于分子结构中含有活泼氢原子,可通过硅氢加成反应与带有乙烯基或乙炔基的其他有机物加成,从而合成共聚物高分子.合成四甲基二氢二硅氧烷的主要方法,目前主要是通过二甲基氯硅烷(Me2SiHCl)水解缩聚等反应制得(图1,方程1)[3].近期,我们对大位阻取代的二硅氧烷的合成产生了兴趣.文献调研发现,有关叔丁基取代的二硅氧烷的研究甚少.然而,由于叔丁基大的位阻效应影响,这类化合物呈现出特殊的物理和化学性质.比如,二叔丁基氢氯硅烷(tBu2SiHCl)水解只能停留在生成硅醇(tBu2HSiOH)的步骤,叔丁基的位阻效应阻止了其进一步缩聚形成二硅氧烷.Weidenbruch等利用tBu2SiHCl与AgNO3反应制备了羟基取代的二硅氧烷化合物1,但是,其产率只有11%(图1,方程2)[4-6].最近,Lerner等使用tBu2SiH(OH)与CF3SO2Cl的反应成功地制备了四叔丁基二硅氧烷化合物2(图1,方程3)[7],虽然这个反应的产率较之前的方法有所提升(60%),但反应生成了一个较难分离的单边羟基取代的副产物,二硅氧烷化合物3.此外,该反应的弊端还在于需要使用大量化学性质活泼的三氟甲磺酰氯.

图1 几种二硅氧烷化合物的合成Fig.1 The synthesis of some disiloxanes

本文以叔丁基锂和硅氯仿作为初始原料合成了二叔丁基氯硅烷4.该氯硅烷在碱性条件下水解得到硅醇5,硅醇5在氢化钠作用下与二叔丁基氯硅烷4反应得到大位阻取代的二硅氧烷2,化合物2可以用液溴溴化为溴代二硅氧烷6(图2).本实验所设计的叔丁基二硅氧烷的合成路线,反应条件温和,产物收率高,方法可靠.

图2 叔丁基二硅氧烷的合成及其溴化反应Fig.2 The synthesis and bromination of tert-butyl substituted disiloxane

1 实验部分

1.1 主要试剂及仪器

叔丁基锂(1.3Min pentane),萨恩化学技术(上海)有限公司;三氯硅烷,分析纯,上海晶纯生化科技股份有限公司;氢氧化钠溶液,自制,浓度为2%;氢化钠,分析纯,国药集团化学试剂有限公司;液溴,化学纯,上海强顺化学试剂有限公司.

核磁共振仪,AVANCE,400 MHz,德国布鲁克公司;气相色谱-质谱联用仪(GC-MS),安捷伦7890a气相色谱仪和5975c质谱仪.

1.2 合成方法

1.2.1 二叔丁基氯硅烷4的合成

在装配有恒压滴液漏斗的三口烧瓶中(500mL)加入tBuLi(107mmol)的正戊烷溶液(注意:叔丁基锂易自燃),在冰水浴的条件下,由恒压滴液漏斗逐滴加入HSiCl3(50mmol,6.78g)的正己烷(20mL)溶液,约30min后滴加完毕.将反应混合物缓慢升温至40 ℃,继续搅拌过夜.反应结束后,冷却至室温,过滤生成的锂盐,收集滤液,旋转蒸发除去溶剂.常压蒸馏,收集170~175℃的馏分,得到无色液体即为化合物4.产率:70%.GC-MS(m/z):178(M+).

1.2.2 二叔丁基硅醇5的合成

在250mL的锥形瓶中加入20mL化合物4(60mmol,10.7g)的四氢呋喃溶液和100mL 2%的氢氧化钠溶液,室温搅拌30min.反应后的混合物用20mL 正己烷萃取3次,收集有机相并用无水MgSO4干燥10min.过滤,旋转蒸发除去溶剂,得到白色固体,即为化合物5.产率:80%.GC-MS(m/z):159(M+-1)

1.2.3 四叔丁基二硅氧烷2的合成

在100mL Schlenk瓶中加入NaH (100mmol,240mg),随后20mL化合物5(100mmol,160mg)的正己烷溶液缓慢导入,反应30min后,加入20mL化合物4(100mmol,178mg)的正己烷溶液,以上混合物在室温下反应3h.反应完毕后将反应混合物转移至分液漏斗中,用蒸馏水洗涤3次,收集有机相,用无水MgSO4干燥后旋干溶剂,减压条件下收集90~92 ℃的馏分,得到无色液体,即为化合物2.产率:70%.GC-MS(m/z):302(M+),1H NMR(CDCl3,400 MHz,ppm):δ1.03(s,36H,C(CH3)3),4.32(s,1H,SiH);13C NMR(CDCl3,100MHz,ppm):δ19.6(C(CH3)3),27.40(CH3);29Si NMR(CDCl3,80 MHz,ppm):δ6.8.

1.2.4 四叔丁基二溴二硅氧烷6的合成

在装配有恒压滴液漏斗的100mL的反应瓶中加入20mL二氯甲烷和化合物2(5.0g,16.5mmol),搅拌使之完全溶解.将反应瓶液置于冰水浴中,逐滴加入液溴,反应放出大量的热,待溶液的颜色不再发生明显变化时,停止滴加,此时液溴用量约为10mL.升温至室温继续反应1h后,将反应液转入分液漏斗中,用饱和的亚硫酸钠溶液洗涤3次,除去过量的溴.收集有机相,用无水MgSO4干燥后旋干溶剂,得到白色粉末状固体,即为化合物6.产率:6g(75%).GC-MS(m/z):459(M++1)1H NMR(CDCl3,400 MHz,ppm):δ1.17(s,36H,C(CH3)3);13C NMR(CDCl3,100 MHz,ppm):δ24.23(C(CH3)3),27.77(CH3);29Si NMR(CDCl3,80 MHz,ppm):δ11.28.

2 结果和讨论

文献报道中,二叔丁基氯硅烷4的合成很多都是用格氏反应法,即利用叔丁基氯(溴)化镁与三氯硅烷(硅氯仿)反应.我们也尝试了这种方法,但是发现产率较低,于是选用如图2所示的方法作为制备化合物4的步骤.在冰水浴的条件下,将三氯硅烷的正己烷溶液缓慢滴入到叔丁基锂的正戊烷溶液中,随着反应的进行,有极细的黄色颗粒状LiCl盐沉淀出现.反应完毕处理后,在常压下蒸馏,收集170~175 ℃的馏分,产率在70%左右.经过GC-MS检测,其分子离子峰出现在m/z=178处.该方法产率较高,反应后处理简单,其缺点是要用到对空气和水敏感的叔丁基锂试剂,此外原料价格较贵.

化合物4在碱性条件下水解,室温下搅拌30min即可完全反应,GC-MS检测转化率在95%以上.产物的分离方法也很简单,用正己烷/蒸馏水洗涤3次,有机相干燥旋干后即得到硅醇5的白色固体.GCMS检测其M+-1的碎片离子峰出现在m/z=159处.

在氮气保护下,在反应瓶中加入硅醇5和氢化钠,搅拌30min后形成硅醇钠盐.随后缓慢加入氯硅烷4,室温下反应3h后GC-MS检测显示,化合物2的转化率能够达到90%.延长反应时间或者升高反应温度并不能提高化合物2的转化率.减压蒸馏收集90~92 ℃的馏分,可以得到无色液状化合物2.经过GCMS分析,其分子离子峰出现在m/z=302处.在该化合物的核磁氢谱中,化学位移为1.03ppm 处的尖锐单峰可以归属为4个叔丁基上的甲基;而化学位移为4.32ppm 处的单峰为Si—H 的振动峰.在其核磁硅谱中,Si的振动峰出现在6.8ppm 处.尽管文献中已有化合物2的合成,但有的产率较低,有的分离困难.我们利用硅醇钠盐与氯硅烷的反应,可以高产率地得到二硅氧烷,且后处理方便.

文献中硅氢键的溴化一般在甲苯或苯中进行,实验发现,该二硅氧烷的溴化在二氯甲烷中也能顺利进行,而且不影响其产率.该反应剧烈放热.加入液溴后,红色很快消失,持续滴加,待溶液的颜色呈微红色时,停止滴加并撤去冰水浴.后处理后得到白色固体化合物6.其分子离子峰出现在m/z=459处.在核磁氢谱中,Si—H 振动峰消失.而其核磁硅谱中,由于溴的电负性,其硅谱与化合物2 比向低场移动,在11.28ppm 附近.

3 结 论

二叔丁代氯硅烷在水解合成二硅氧烷时,由于大位阻取代基的存在,反应只能进行到硅醇步骤,不能继续缩聚形成二硅氧烷.本文介绍了一种大位阻二硅氧烷的合成方法.该方法先形成硅醇钠盐,随后与氯硅烷继续反应得到目标产物.该方法反应底物简单易得,反应条件温和易控制,产率较高.

[1]来国桥.有机硅化学与工艺[M].北京:化学工业出版社,2011.

[2]来国桥,幸松民.有机硅产品合成工艺及应用[M].北京:化学工业出版社,2010.

[3]Weidenbruch M,Pesel H,Vanhieu D.Silicon-compounds with strong intramolecular steric interactions.tert-butyl substituted disiloxanes and trisiloxanes[J].Z Naturforsch,1980(35b):31-34.

[4]Sommer L H,Tyler L J.Steric effects of the t-butyl group in organosilicon compounds[J].J Am Chem Soc,1953(76):1030-1033.

[5]Bartel L S,Burgi H B.Structure of tri-tert-butylmethane.Inferences combining electron diffraction,spectroscopy,and molecular mechanics[J].J Am Chem Soc,1972,94(15):5239-5246.

[6]Mahoney L R,Mendenhall G D,Ingold K U.Calorimetric and equilibrium studies on some stable nitroxide and iminoxy radicals.Approximate O-H bond dissociation energies in hydroxylamines and oximes[J].J Am Chem Soc,1973,95(26):8610-8614.

[7]Lerner H W,Scholz S,Wiberg N,etal.Syntheses and crystal structures oftBu-substituted disiloxanestBu2SiX-O-SiYtBu2(X=Y=OH,Br;X=OH,Y=OH)and of the adductstBu3SiOH·(HO3SCF3)0.5·H2O andtBu3SiOLi·(LiO3SCF3)2·(H2O)2[J].Z Anorg Allg Chem,2005,631(10):1863-1870.

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