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化学镀镍规律及机理探讨

2012-12-07谢洪波陈华三张来祥

电镀与精饰 2012年2期
关键词:化学

谢洪波, 江 冰, 陈华三, 张来祥

(1.青岛大学 应用技术学院,山东 青岛 266061;2.青岛市环境保护科学研究院,山东 青岛266003;3.中国电子科技集团43所,安徽合肥 230022)

化学镀镍规律及机理探讨

谢洪波1, 江 冰2, 陈华三3, 张来祥1

(1.青岛大学 应用技术学院,山东 青岛 266061;2.青岛市环境保护科学研究院,山东 青岛266003;3.中国电子科技集团43所,安徽合肥 230022)

基于化学反应所遵循的物质守恒原理,在已知主要反应物、生成物条件下,利用化学方程式配平法,探讨了不同条件下化学镀镍的基本规律,首次提出了与目前经典化学镀镍理论不同的反应方程式;在此基础上找出了次磷酸利用率规律;利用P—H键断裂理论分析探讨了化学镀镍溶液成分及工艺条件,如稳定剂、pH、装载量、加速剂及络合剂等对化学镀镍的影响机理;总结提出了提高化学镀镍速度的措施。

化学镀镍;次磷酸钠利用率;反应方程式;化学镀镍机理;反应速度

引 言

化学镀镍问世以来,有关反应机理问题就一直进行着研究探讨。但由于化学镀镍机理的复杂性、还原剂氧化过程、中间态粒子的复杂和难以检测等问题,化学镀镍的机理一直无法获得定论,只是根据少量、局部实验结果进行推测[1]。鉴于理论对于实践具有重要指导意义,持续不断的开展化学镀镍机理研究很有必要。本文将利用化学反应式初步探讨化学镀镍的原理及规律;找出次磷酸的利用率规律;总结阐述化学镀镍的基本规律,并利用P—H键断裂机理分析探讨化学镀镍机理,进而提出提高化学镀镍速度的措施。……

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