万冀杰 刘春东 张东辉 李常胜 石树正

（1.河北省送变电公司；2.河北建筑工程学院，河北 张家口075024）

0 前 言

电子束经过磁聚焦以后，在到达待熔金属之前还要经过偏转扫描系统，其作用是使电子束按照一定的规律在待熔金属上进行偏转扫描，从而使电子束可以轰击到待熔金属上的任何一点.

1 磁场强度与偏转角

磁偏转磁场主要分为三种：一种是磁力线呈枕形分布，即枕形场（见图1a），一种是磁力线呈桶形分布，即桶形场（见图1b），还有一种磁力线是平行分布，此时的磁场分布类似于一个钟形场分布（见图2）.

图1 两种磁偏转场的磁力线分布

图2 均匀场的磁场分布

磁偏转系统应保证轰击到待熔金属上的电子束的位置合理、功率分配均匀.电子束偏转γ角所需的磁场强度

其中，γ为偏转角；Ur为相对论修正后的加速电压；a为偏转磁场的宽度.

2 线圈安匝数与偏转角

偏转线圈的安匝数是磁偏转系统的一个最重要参数，安匝数的大小体现了磁偏转能力的强弱.确定安匝数时，已知的条件不同，求解公式也不同：

1）磁偏转系统产生磁场强度所需的安匝数为式中，H为磁场强度，A／mm；C为偏转板间距（即磁场的宽度），mm；λ为考虑铁心、磁轭等损耗以及偏转系统漏磁的修正系数，一般取1.5～2.

2）将式（1）代入式（2）中，就可以得到偏转线圈的安匝数NI和偏转角γ的关系

3 线圈具体绕制

将磁偏转线圈按照各种不同方式绕制，就可以产生各种不同的场分布，其中常用的是按余弦法则进行线圈绕制……