吕晓庆， 李合琴， 周 矗， 崔 跃， 何 蓓， 刘 涛

（合肥工业大学 材料科学与工程学院，安徽 合肥 230009）

VO2薄膜具有高的电阻温度系数以及优良的热敏性能，在智能窗［1－2］、光电开关、非制冷红外辐射热计等方面有重要的应用前景。目前VO2薄膜的制备方法主要有磁控溅射法［3］、真空蒸镀法、脉冲激光沉积及溶胶－凝胶法［4］等。本文采用反应磁控溅射法在玻璃基底上制备了VO2单层膜及TiO2／VO2双层膜，并检测其电学、光学、结构及形貌等方面的性能；通过添加TiO2缓冲层来改善薄膜的性能，制备出能满足实际应用需求的VO2薄膜。

1 实 验

实验所用镀膜设备为中国科学院沈阳中科仪器所研制的FJL560B1型高真空磁控与离子束联合溅射设备。首先用磁控溅射法在玻璃基底上制备出VO2单层薄膜（样品1）与TiO2／VO2双层薄膜（样品2），溅射靶材为99.99%的高纯金属钒靶和钛靶，溅射电源为直流电源，溅射气体和反应气体分别为 Ar（99.99%）和 O2（99.99%），溅射前依次用丙酮、乙醇及去离子水对玻璃衬底进行标准超声清洗［5］各15min，吹干后放入溅射室。溅射室本底真空为1.0×10－4Pa，先通入高纯Ar气，对靶材预溅射10min，然后通入O2气，进行反应溅射。对于TiO2／VO2双层薄膜，先在玻璃上制备一层TiO2薄膜，再制备一层VO2薄膜。实验中采用了精密电桥和LCR测试仪、D／MAX2500V型X射线衍射仪、Sirion 200型场发射扫描电镜、UV－2550紫外－可见分光光度计等对薄膜的表面形貌和晶体结构进行分析。

2 实验结果与分析

2.1 薄膜样品的电阻分析

VO2薄膜和TiO2／VO2薄膜的电阻－温度曲线如图1所示。

图1 VO2薄膜和TiO2／VO2双层薄膜的电阻－温度曲线

由图1可看……