喻寿益，李晨

(中南大学 信息科学与工程学院，湖南 长沙，410083)

Low-E玻璃[1]是一种国家鼓励发展的重要节能高新技术产品。它是在玻璃基片表面通过物理或化学方法涂镀多层金属单质或化合物薄膜，以改善玻璃的光、热性能，使产品具有多种色彩、反射红外线、吸收紫外线、透射可见光等特性。真空磁控溅射技术[2]可以方便地控制镀层薄膜的成分和厚度，使产品具有较广的颜色选择范围、较好的耐磨性和耐腐蚀性，是目前应用最多的Low-E玻璃生产技术。该工艺生产线流程长，玻璃基片需在大气与真空环境中穿越。要求传动系统控制精度高，基片定位控制准确，传动系统控制难度大。本文作者针对真空磁控溅射法生产工艺的特点，设计一种基于西门子S7-400PLC[3]和SEW伺服电机的分布式生产线传动控制系统[4]。

1 生产线传动系统结构及性能要求

1.1 生产线结构及对传动系统要求

磁控溅射法Low-E玻璃生产线[5]正常生产时，待镀玻璃基片由装片台上生产线，依次经过前清洗机、进口过渡室、进口缓冲室、进口过渡区在磁控溅射室完成镀膜过程后，经过出口过渡区、出口缓冲室、出口室、出口过渡室、后清洗机由卸片台下生产线。其中，装片台、前清洗机、进口过渡室、出口过渡室、后清洗机、卸片台为大气环境区；进口室、进口缓冲室、进口过渡区、磁控溅射室、出口过渡区、出口缓冲室、出口室为真空环境区。真空环境区真空度高达10-2～102Pa，各工艺室均为全钢封闭腔体，由液压门相互隔绝。……