氧化锡薄膜的光学性能及制备技术
2012-07-09黄晓霞
兵器装备工程学报 2012年12期
关键词:模型
唐 平,黄晓霞
(中国兵器工业第五九研究所,重庆 400039)
透明氧化锡薄膜在技术上的重要性激发了人们对其光学性能、成分和结构特征的研究。薄膜作为材料的特殊形态,其制备-结构-性质间的关系与对应的块体之间存在较大差异,因而使其获得了新的或者特殊的应用。然而,目前可供使用的光学薄膜虽有百余种之多,但就其光学、机械和化学性能全面考虑,真正有用的材料却并不多。本文就氧化锡薄膜的光学性能及应用进行分析。
1 氧化锡薄膜的光学性能
对于光学应用的薄膜,折射率是其关键的性能。此外,还有折射率与波长的关系、透明波段、微观结构对光学吸收和散射的影响等。然而,由于薄膜材料种类的限制,往往无法直接获得具有适当折射率的薄膜材料。
1.1 折射率
1.1.1 影响折射率的因素
折射率是描述光学薄膜性能的主要参数,是薄膜光学性能实现的重要参数条件。薄膜的折射率主要依赖于材料种类、波长、晶体结构等几个因素。
1)材料种类
材料的折射率是由其价电子在电场作用下的性质决定的。若材料外层价电子很容易极化,则其折射率一定很高。随着元素原子量的增加,原子核中正电荷对外层电子的屏蔽作用也更强,结果表现为禁带宽度变窄而折射率增大。
2)波长
折射率因波长而异的现象称为色散。正常色散位于透明区,而反常色散位于吸收带内。在电子论中把光的色散归结为材料原子中的电子在光波电场作用下发生迁移所致。……
登录APP查看全文
