王丽格，黄美东，李洪玉，张琳琳，佟莉娜，杜 姗

（天津师范大学 物理与电子信息学院，天津 300387）

采用不同功率溅射制备氧化钛薄膜的研究

王丽格，黄美东，李洪玉，张琳琳，佟莉娜，杜 姗

（天津师范大学 物理与电子信息学院，天津 300387）

常温下，利用射频（RF）反应磁控溅射方法在K9双面抛光玻璃基底上沉积氧化钛薄膜.采用光栅光谱仪对薄膜样品的透射谱进行测试，通过椭圆偏振光谱仪测试并拟合得到薄膜的厚度、折射率和消光系数等光学参数，借助掠入射角X－射线衍射对薄膜的结晶状态进行了测试.实验结果表明：不同溅射功率下沉积的样品呈非晶态，在40～100 W范围内，溅射功率越大，薄膜的沉积速率越大，但溅射功率对折射率和消光系数影响不大.

溅射功率；磁控溅射；氧化钛薄膜；光学性能

自然界中的氧化钛主要以金红石、锐钛矿和板钛矿3种结构存在，而在薄膜中一般只能观察到金红石、锐钛矿及其无定形结构［1］.氧化钛坚硬、抗化学腐蚀，在整个可见和近红外光谱区均透明，且折射率大、化学稳定性高，己被广泛地应用于光电转换、电致变色窗、太阳能电池、薄膜光波导、干涉滤波片和抗反射涂层等领域［2－4］.因此，研究制备氧化钛薄膜的工艺具有重要的现实意义［5－9］.目前，可以通过多种方法制备氧化钛薄膜，如电子束蒸发、活化反应蒸发、离子束、离化团束和直流（交流）反应磁控溅射技术等物理气相沉积方法，也可以通过化学气相沉积、溶胶－凝胶（sol－gel）等化学方法……