周庚侠 ，班书宝，吴东岷，顾济华

ZHOU Geng-xia1,2，BAN Shu-bao1,2，WU Dong-min2,GU Ji-hua1

（1.苏州大学 物理科学与技术学院，苏州 215006；2.中国科学院 苏州纳米技术与纳米仿生研究所，苏州 215125）

0 引言

微尺寸的机械在医药、工业等方面有着巨大的应用潜能，要实现微尺寸器件的加工，我们面临的挑战就是开发微加工技术，现有的微加工技术像MEMS、LIGA等技术需要使用大量的掩膜进行重复的曝光过程，这样既费时又费力，并且不能制作高深宽比的器件[1]。由快速成型技术发展而来的微立体光刻技术可以满足快速制造高深宽比的复杂微器件的要求。微立体光刻技术可以分为线扫描微立体光刻和面投影微立体光刻技术。线扫描微立体光刻技术由Ikuta 和Kirowatari[2]最先提出，使会聚光束依照计数机切片的薄层数据逐点扫描完成一层的制造，一层制造完后，以同样的方式固化下一层新的薄层，连续扫描直至三维模型的制成。此种方法的加工速度慢。

液晶显示器（Liquid Crystal Display，LCD）和数字微反射镜（Digital Micromirror Divce，DMDTM）技术的出现，面投影微立体光刻技术得到了迅速的发展。1997年Bertsch等人开发了一套面投影微立体光刻机，利用LCD作为动态掩模发生器，光束经过LCD掩模整形获得与待聚合树脂层形状一致的光束，通过一次照射将光束投影到树脂表面完成一层的制造。LCD具有分辨率低、对比度低等缺点，限制了LCD动态掩模微立体光刻技术的进一步发展[3]。

DMD具有高分辨率、高光学效率、高频对比度等特点，并且控制灵敏，紫外光对铝制镜片没有损伤，与LCD掩模相比，具有明显的优势。……