日本特许厅近日在其网站发布《2011年度报告》，就2010年日本工业产权申请、日本申请人的海外申请，以及该局审查/复审、授权情况等予以回顾和分析。日本发明专利申请量多年来维持在40万件左右。至2009年，日本发明专利申请量已大幅下降；2010年较上年则又减少1.1%，为344,598件。2010年，美国和欧洲申请的日本发明专利申请占外国申请总量(54,517件)的82%，达44,305件；韩国占8.9%，为4,872件；中国提交申请1,063件(1.9%)，较2006年激增约2倍，然而，与欧美相比依然很少。2010年，日本特许厅受理的PCT申请量为31,524件，较上年增长7.6%。按PCT申请人居住国别统计，2010年源自日本的PCT申请达32,148件，增7.9%，为居美国(44,925件)后的第二位。2010年，日本特许厅发明专利平均实审周期为28.7个月，较上年少0.4个月,接近2008年的28.5个月。共完成无效复审和权利取消复审237件；复审周期9.8个月。口头审理247件(含外观设计和商标)。日本发明专利授权量持续大幅增长，2010年高达222,693件，增15.2%。外国申请人获日本发明专利授权达35,456件，增23%。其中，美国和欧洲的申请占83%；韩国占9.9%；中国255件，占近1.0%。